超純水設(shè)備應(yīng)用范圍                                              

1、電子材料加工、單晶硅半導(dǎo)體、半導(dǎo)體材料、液晶顯示器、計(jì)算機(jī)硬盤(pán)、印刷電路板、集成電路；

2、LCD、EL、PDP、TFT、玻殼和顯像管；

3、超純材料和超純化學(xué)劑導(dǎo)纖維和光盤(pán)；

4、汽車(chē)、家電表面電泳漆清洗用水及其它高科技精密產(chǎn)品；

超純水設(shè)備技術(shù)參數(shù)                                              

機(jī)器型號(hào)：N 1T-DI

制 水 量：1 T/H

主要管徑：DN 32

工作壓力：≤1.0MPa

產(chǎn)水電阻率：18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm

進(jìn)水水源：城市自來(lái)水

進(jìn)水水溫：5－35℃

機(jī)器電源：380V/50HZ

超純水設(shè)備產(chǎn)品介紹                                            

采用國(guó)際先進(jìn)的反滲透裝置，配套進(jìn)口混合離子交換設(shè)備或EDI設(shè)備和紫外線(xiàn)滅菌器、精密過(guò)濾器，出水水質(zhì)符合電子部超純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級(jí)），取代蒸餾水，滿(mǎn)足大專(zhuān)院校、科研機(jī)構(gòu)和工業(yè)企業(yè)的實(shí)驗(yàn)、科研和生產(chǎn)對(duì)高純度純水的要求。

    該設(shè)備廣泛應(yīng)用于電鍍工藝去離子水、電池生產(chǎn)工藝用純水、汽車(chē)、家用電器、建材產(chǎn)品表面涂裝、清洗純水、鍍膜玻璃用純水、紡織印染工藝所需的除硬除鹽水系統(tǒng)。超純水制造技術(shù)的發(fā)展極大地推動(dòng)了半導(dǎo)體和電子工業(yè)的技術(shù)發(fā)展。

超純水設(shè)備工藝說(shuō)明                                              

電子工業(yè)制備超純水的工藝大致分成以下3種：

　 1、離子交換樹(shù)脂制備超純水設(shè)備的傳統(tǒng)水處理方式，其基本工藝流程為：

原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→陽(yáng)床→陰床→混床→后置保安過(guò)濾器→用水點(diǎn)（特點(diǎn)：污染比較大，自動(dòng)化程度低，初期投入低）

　 2、反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備進(jìn)行組合制備超純水設(shè)備的方式，其基本工藝流程為：

原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→反滲透設(shè)備→混床→超純水箱→超純水泵→后置保安過(guò)濾器→用水點(diǎn) （特點(diǎn)：污染小，自動(dòng)化程度高，初期投入中等，價(jià)格適中）

　 3、反滲透設(shè)備與電去離子（EDI）設(shè)備進(jìn)行搭配制備超純水設(shè)備的的方式，這是一種制取超純水的最新工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟(jì)，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に嚕浠竟に嚵鞒虨椋?

原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→反滲透設(shè)備→電去離子（EDI）→超純水箱→超純水泵→后置保安過(guò)濾器→用水點(diǎn)（特點(diǎn)：環(huán)保，自動(dòng)化程度高，初期投入大，價(jià)格相對(duì)比較貴）